苹果华为都在搞胶水芯片,这事得怪晶圆太圆了
2022-04-12 07:57

苹果华为都在搞胶水芯片,这事得怪晶圆太圆了

本文来自微信公众号:差评 (ID:chaping321),作者:差评君,题图来自:视觉中国


关注了咱们差评的小伙伴肯定还记得,上个月的时候我们讨论了一下苹果造的那颗胶水芯片——M1 Ultra。


当时咱们说苹果的胶水芯片是一种妥协,因为一颗芯片越大,切割之后晶圆四周浪费的“边角料”就越多。


就好像是一刀 999 元的切糕一样,这玩意要是白白浪费了绝对是浑身肉疼。



话说到这儿,我发现评论区就开始有小伙伴讨论起来了:


那为什么芯片要做成方的?做成三角形、六边形的,不就不会造成晶圆浪费了?



哎,不得不说大家伙的想法都非常有创意呀,不过其实这样做反而会增加切割难度,对芯片的良品率造成影响。



到时候一核算成本,还不如浪费点边角料来的划算。


所以“异形芯片”的思路,其实是行不太通的。



不过这时候可能就要有小伙伴继续另辟蹊径了:


芯片为了保证好切保持方形不能变,那如果直接把底下的硅片做成方形的呢?


把“晶圆”变成“晶方”,切芯片的时候不也就没有浪费了嘛!


嗯......这个方法,说可行也行,说不行也不行。


但是要想把它讲明白,我得先问大家伙这么一个问题:你们见过方形的黄瓜吗?


先有晶棒,才有晶圆 


众所周知,芯片是由晶圆刻蚀的,而晶圆则是由高纯度的沙子,哦不,高纯度的硅元素组成的。


对普通的石英砂进行一系列的高温还原反应,化学提纯反应后,我们可以得到下图这样的高纯度硅棒。



不过这还只是第一步,这样的硅棒由多晶硅构成,此时还不能用于生产晶圆。


就像这张图中间所示的那样,因为之前经过了各种粗犷的化学反应,内部的硅晶体结构框架不均匀。


单晶、多晶、不定


充满了各种不对称结构。



而为了消除这些不对称的内部紊乱,我们还需要对多晶硅处理,将其转变成可以用于芯片生产的结构稳定,电性能良好的单晶硅。


到了这一步,其实就是要生产正儿八经的晶圆了。


目前行业里常用的工艺叫做柴可拉斯基法,也有个非常形象通俗的名字——直拉法,市场占比约为 95%。咱们常见的逻辑芯片,存储芯片基本都是用这个方法生产出来的。


其中具体发生的具体变化,咱们可以在这张图中看个大概:



首先是将刚才得到的多晶硅放在石英中加热至熔融状态,然后再植入一颗单晶硅“种子”。


这融化的硅溶液一碰到单晶硅种子,就可以在硅种子的尾部开始有序生长。


通过控制旋转的速度,和提拉的速率,我们就能得到不同宽度,不同长度的圆柱形单晶硅棒。


注意了!是旋转!



还是没什么概念的小伙伴,咱们想象一下路边的棉花糖摊。


拉晶棒的过程就和转棉花糖的起手式差不多。



也就是说,目前主流的单晶硅生产工艺,决定了硅棒大概率得是圆形。反正我是没见过方形的棉花糖。


至于再往后,就是把晶棒掐头去尾,侧边打磨光滑。


然后再像切香肠一样一点点切片,一张张晶圆的原材料,硅片就诞生了。


切完了,但是还没结束?


其实到了这一步,关于晶圆形状的问题也没定死。


因为虽然直拉法是主流的单晶硅制造方案,但其实在它之外,也还有区熔法等方案,方形晶棒从理论上来说也还是有可能的。


但是为什么一定要用圆形?其实问题还要牵扯到更后续的设计工艺上来。




在我们抛光打磨完切片的硅片之后,为了正式光刻,还需要在上面涂抹光刻胶。


一般来说,光胶膜厚度在 0.5~1.5um 不等,而均匀性必须要在正负 0.01um 内才行。


这个精度,肯定不能靠我们手工来解决的。



现在行业里常用的方案是“甩胶” 。即在中心处加入光刻胶,然后旋转晶圆片。


然后通过不断的控制转速来将胶质甩开,最终我们就可以得到均匀平层的光刻胶。



也就是说吧,如果咱把硅片做成方形再旋转的话,可能就是有的角落胶水堆积比较多,有的角落光刻胶就少了。


边角的均匀性一下子就大打折扣了,即使变成了方形,可边角这部分可能到最后还是得扔。


而且吧,除了光刻胶的问题,还有个更要命的事。


那就是在大家的“约定俗成”下,圆形硅片早就是行业标准了。


对应的光刻机、自动产线等等,都是基于“晶圆”的这个前提去设计的。


ASML的光刻机


假如说现在有谁想整个方形的晶棒,他不仅仅要面对“拉出方形晶棒”的问题,还得把整个后续的产线重新翻新设计一番。


所以,晶圆可不可以做成方形的呢?可以,但不值。


严格来说,这并不浪费


照这么看,晶圆上那些“浪费”的区域看来是不得不存在了。


但是咱就是说,有没有一种可能,这个“浪费”的概念是咱们先入为主了。


有没有可能,晶圆的边缘部分,本身就应该被浪费掉呢?


其实啊是这么回事,在硅片生产的切割,倒角,打磨等一系列的过程中,硅片的边缘会积累下不少的边缘应力。


这就导致了,晶圆边缘的结构是相对脆弱的。


就算是把边缘区域都利用了起来做芯片,良品率也不太能得到保证。



所以说吧,别看晶圆做圆形,芯片做成方形,但是某种意义上来讲,这两对组合还是非常般配的。


不过当然了,即使这么解释了一番,晶圆边缘内侧的区域也还是确确实实存在着一些浪费——只不过浪费的区域没咱们想象的那么大了。


而假如真要把这一小部分的浪费解决掉,其实大家现在采用的方法都差不多。


那就是向微积分看齐。


把晶圆越做越大,芯片越做越小,这方形不就...... 拼起来像极了圆?



至于如何把晶圆给整大,又如何在保证性能的前提下把芯片做小,这种让人头大的问题,还是交给工程师来想办法吧。


图片、资料来源:

https://www.britannica.com/technology/Czochralski-method

Why are processor wafers round?

From Sand to Silicon: the Making of a Chip

周扬民 | 西门子还原炉内传热及硅棒热电行为研究

Numerical Simulations of a 96-rod Polysilicon CVD Reactor

Die Per Wafer Estimator

不仅光刻机,光刻胶我们也难突破,为什么日本能牢牢占据市场?| 爱较真的戴老师


本文来自微信公众号:差评 (ID:chaping321),作者:差评君

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