三星和SK海力士在EUV光刻技术领域分道扬镳。

据报道，三星专注于提高良率，而SK海力士则专注于长期技术进步。韩国两大半导体巨头三星电子和SK海力士在极紫外（EUV）光刻技术上采取了不同的策略，引起了业界的高度关注。作为年终组织重组的一部分，三星电子在全球制造和基础设施总部下成立了一个新的工作组（TF），名为“EUV Synergy TF”。此举被视为提高超精细半导体制造（例如3纳米(nm)代工厂）良率的努力。

相比之下，SK海力士则采取了不同的做法。该公司在今年的组织重组中解散了EUV TF，并将其并入未来技术研究院。此举凸显了 SK 海力士对长期技术进步的关注，而不是眼前产量的提高。SK 海力士于2021年开始将 EUV 应用于其10纳米级第四代 DRAM，目前在利川的 M16工厂运营着10多台 EUV 机器。